Phosphorus implant for S/D extension formation: Diffusion and activation study after spacer and spike anneal

AIP Conference Proceedings

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Yeong, S.H., Colombeau, B., Benistant, F., Srinivasan, M.P., Mulcahy, C.P.A., Lee, P.S., Chan, L.
مؤلفون آخرون:	CHEMICAL & BIOMOLECULAR ENGINEERING
التنسيق:	Conference or Workshop Item
منشور في:	2014
الموضوعات:	Ge-pai Halo implant Phosphorus Spacer anneal SPER Spike anneal
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/74713
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

كن أول من يترك تعليقا!

مواد مشابهة