Experimental and simulation study of the flash lamp annealing for boron ultra-shallow junction formation and its stability

10.1016/j.mseb.2008.10.013

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Mok, K.R.C., Yeong, S.H., Colombeau, B., Benistant, F., Poon, C.H., Chan, L., Srinivasan, M.P.
مؤلفون آخرون:	CHEMICAL & BIOMOLECULAR ENGINEERING
التنسيق:	مقال
منشور في:	2014
الموضوعات:	Advanced annealing technique Atomistic simulation Diffusion Dopant deactivation Flash lamp annealing Junction stability
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/63888
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

مواد مشابهة