Characterization of thin-film GaAs diodes grown on germanium-on-insulator on Si substrate

In this study, we report the characterization of thin-film GaAsgrown on germanium-on-insulator (GeOI) on Si substrate. A GaAs/GeOI diode with a 600 nm buffer layer showed a rectification of 1.0 × 107 at ±2 V and had an electrical performance similar to that of the reference sample grown on GaAs subs...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Chia, Ching Kean, Xu, Z., Yoon, S. F., Yeo, Y. C., Cheng, Y. B., Dalapati, G. K.
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/79482
http://hdl.handle.net/10220/18862
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!