New low-voltage contrast mechanism to image local defects in very thin silicon dioxide films. True oxide electron beam induced current

Annual Proceedings - Reliability Physics (Symposium)

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Lau, W.S., Chan, D.S.H., Phang, J.C.H., Chow, K.W., Pey, K.S., Lim, Y.P., Cronquist, B.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
التنسيق: Conference or Workshop Item
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/72788
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!