Impact of metal gate work function on nano CMOS device performance

• المؤلفون الرئيسيون: Hou, Y.T., Low, T., Xu, B., Li, M.-F., Samudra, G., Kwong, D.L.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/70537

International Conference on Solid-State and Integrated Circuits Technology Proceedings, ICSICT