Large scale ab initio molecular dynamics simulations of hydrogen-induced degradation of Ta diffusion barriers in ultralow-k dielectric systems

10.1063/1.2432948

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Dai, L., Tan, V.B.C., Yang, S.-W., Wu, P., Chen, X.-T.
مؤلفون آخرون: MECHANICAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/60630
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore