Circular apertures for contact hole patterning in 193 nm immersion lithography

• المؤلفون الرئيسيون: Tay, C.J., Quan, C., Ling, M.L., Chua, G.S., Tan, S.K., Lin, Q.
• مؤلفون آخرون: MECHANICAL ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/59709
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1116/1.3546100