Mechanism and dissolution rates of anodic oxide films on silicon

10.1016/j.electacta.2013.04.024

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Liu, D.Q., Blackwood, D.J.
مؤلفون آخرون: MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/86531
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
الوصف
الملخص:10.1016/j.electacta.2013.04.024