Characterization of AlInGaN quaternary epilayers grown by metal organic chemical vapor deposition
10.1016/j.jcrysgro.2004.04.082
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Liu, W., Soh, C.B., Chen, P., Chua, S.J. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/83539 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Metalorganic chemical vapor deposition and spontaneous emission of self-assembled InAs quantum dots in open space and in a planar microcavity
بواسطة: Zhang, X.H., وآخرون
منشور في: (2014) -
MOCVD growth of GaInNAs/GaAs multiple quantum wells with nitrogen composition fluctuation
بواسطة: Zhou, W., وآخرون
منشور في: (2014) -
Inverted hexagonal pits formation in AlInGaN epilayer
بواسطة: Soh, C.B., وآخرون
منشور في: (2014) -
Investigation of N incorporation in InGaAs and GaAs epilayers on GaAs using solid source molecular beam epitaxy
بواسطة: Cheah, W.K., وآخرون
منشور في: (2014) -
Effect of substrate temperature on the formation of CdO composite in CdS-doped SiO2 films as deposited by PLD
بواسطة: Wang, H., وآخرون
منشور في: (2014)