Rapid thermal oxidation of Ge-rich Si1-xGex heterolayers

• المؤلفون الرئيسيون: Bera, M.K., Chakraborty, S., Das, R., Dalapati, G.K., Chattopadhyay, S., Samanta, S.K., Yoo, W.J., Chakraborty, A.K., Butenko, Y., Šiller, L., Hunt, M.R.C., Saha, S., Maiti, C.K.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82967
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1116/1.2137329