Two masks process for high aspect ratio inertial sensors with ajustable range

Proceedings of the International Semiconductor Conference, CAS

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Iliescu, C., Avram, M., Miao, J., Tay, F.E.H., Xu, G.
مؤلفون آخرون: MECHANICAL ENGINEERING
التنسيق: Conference or Workshop Item
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/73986
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!