Properties of Schottky contact of titanium on low doped p-type SiGeC alloy by rapid thermal annealing

10.1016/S0038-1101(02)00322-2

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Li, B., Chua, S.-J., Nikolai, Y., Wang, L., Sia, E.-K.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/57139
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore