Critical dimension uniformity via real-time photoresist thickness control

• المؤلفون الرئيسيون: Ho, W.K., Tay, A., Chen, M., Fu, J., Lu, H., Shan, X.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/55472
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1109/TSM.2007.907610