In-situ X-ray diffraction analysis of the crystallisation of a-SI:H films deposited by the expanding thermal plasma technique

• المؤلفون الرئيسيون: Law, F., Hoex, B., Wang, J., Luther, J., Sharma, K., Creatore, M., Van De Sanden, M.C.M.
• مؤلفون آخرون: SOLAR ENERGY RESEARCH INST OF S'PORE
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/52639

10.1109/PVSC.2011.6186582