Rapid thermal annealing assisted stability and efficiency enhancement in a sputter deposited CuO photocathode†

10.1039/c6ra03383k

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Masudy-Panah, S, Siavash Moakhar, R, Chua, C.S, Kushwaha, A, Wong, T.I, Dalapati, G.K
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL AND COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2020
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/180295
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore