Nonlinear effects in defect production by atomic and molecular ion implantation

10.1063/1.4905175

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: David, C., Varghese, Anto C., Dholakia, M., Chandra, S., Nair, K.G.M., Panigrahi, B.K., Santhana Raman, P., Amirthapandian, S., Amarendra, G., Kennedy, J.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: American Institute of Physics Inc. 2016
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/128148
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore