GeSn alloys fabricated by modified sputtering deposition
Direct band-gap semiconductors have always been an interest to the research community in the area of photonics and optoelectronics. Most commonly used group IV semiconductors such as silicon and germanium have shown their capabilities in the application of microelectronics, however, lack in breakthr...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Qian, Li |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Fan Weijun |
التنسيق: | Thesis-Doctor of Philosophy |
اللغة: | English |
منشور في: |
Nanyang Technological University
2020
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/137192 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
GeSn/GaAs hetero-structure by magnetron sputtering
بواسطة: Qian, Li, وآخرون
منشور في: (2021) -
Germanium-tin (GeSn) p-channel fin field-effect transistor fabricated on a novel GeSn-on-insulator substrate
بواسطة: Lei, Dian, وآخرون
منشور في: (2020) -
Investigation of the photoluminescence and absorption spectrum of GeSn nanoplatelets
بواسطة: Lim, Sherleen Ting Wei
منشور في: (2023) -
Strain-relaxed GeSn-on-insulator (GeSnOI) microdisks
بواسطة: Burt, Daniel, وآخرون
منشور في: (2022) -
High-performance GeSn photodetector and fin field-effect transistor (FinFET) on an advanced GeSn-on-insulator platform
بواسطة: Wang, Wei, وآخرون
منشور في: (2019)