Large scale low cost fabrication of diameter controllable silicon nanowire arrays

We report on a novel solution etching method to fabricate vertically aligned aperiodic silicon nanowire (SiNW) arrays. We begin with a simple dewetting process to fabricate a monolayer of well-spaced metal particles in situ on a silicon wafer. The particles function as a sacrificial template to patt...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Sun, Leimeng, Fan, Yu, Wang, Xinghui, Agung Susantyoko, Rahmat, Zhang, Qing
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/103458
http://hdl.handle.net/10220/24497
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!