Large scale low cost fabrication of diameter controllable silicon nanowire arrays
We report on a novel solution etching method to fabricate vertically aligned aperiodic silicon nanowire (SiNW) arrays. We begin with a simple dewetting process to fabricate a monolayer of well-spaced metal particles in situ on a silicon wafer. The particles function as a sacrificial template to patt...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/103458 http://hdl.handle.net/10220/24497 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|