ผลของพารามิเตอร์ในการสปัตเตอร์ต่อการปลูกฟิล์มบางคอปเปอร์ออกไซด์
Reactive DC-magnetron sputtering technique under the mixture of O₂ and Ar gas is used to prepare Cu₂O thin films from pure metallic Cu target. The films coated on soda-lime glass substrates are grown at the total pressure of 6×10⁻³ mbar under various O₂ partial pressures from 0 to 15%. The evolution...
Saved in:
| 主要作者: | |
|---|---|
| 其他作者: | |
| 格式: | Theses and Dissertations |
| 語言: | Thai |
| 出版: |
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
2010
|
| 主題: | |
| 在線閱讀: | https://digiverse.chula.ac.th/Info/item/dc:34879 |
| 標簽: |
添加標簽
沒有標簽, 成為第一個標記此記錄!
|
| 機構: | Chulalongkorn University |
| 語言: | Thai |