ผลของพารามิเตอร์ในการสปัตเตอร์ต่อการปลูกฟิล์มบางคอปเปอร์ออกไซด์
Reactive DC-magnetron sputtering technique under the mixture of O₂ and Ar gas is used to prepare Cu₂O thin films from pure metallic Cu target. The films coated on soda-lime glass substrates are grown at the total pressure of 6×10⁻³ mbar under various O₂ partial pressures from 0 to 15%. The evolution...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Theses and Dissertations |
| اللغة: | Thai |
| منشور في: |
จุฬาลงกรณ์มหาวิทยาลัย
2010
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://digiverse.chula.ac.th/Info/item/dc:34879 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | Chulalongkorn University |
| اللغة: | Thai |