Study of interactions between α-Ta films and SiO2 under rapid thermal annealing

10.1016/j.tsf.2004.05.056

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Yuan, Z.L., Zhang, D.H., Li, C.Y., Prasad, K., Tan, C.M.
مؤلفون آخرون:	CHEMICAL & BIOMOLECULAR ENGINEERING
التنسيق:	مقال
منشور في:	2014
الموضوعات:	α-Ta Cu metallization Diffusion barrier Rapid thermal annealing SiO2
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/90220
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

مواد مشابهة