Thermal stability study of Si cap/ultrathin Ge/Si and strained Si/Si1-xGex/Si nMOSFETs with HfO2gate dielectric
10.1088/0268-1242/21/5/017
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Yeo, C.C., Cho, B.J., Lee, M.H., Liu, C.W., Choi, K.J., Lee, T.W. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2011
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/25762 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Monte Carlo simulations of strained Si/SiGe-OI nMOSFETs
بواسطة: A. Yangthaisong, وآخرون
منشور في: (2018) -
Rapid thermal oxidation of Ge-rich Si1-xGex heterolayers
بواسطة: Bera, M.K., وآخرون
منشور في: (2014) -
Thermal stability of strained Si/Si1-xGex heterostructures for advanced microelectronics devices
بواسطة: Wong, L.H., وآخرون
منشور في: (2014) -
Enhanced boron activation in strained-Si/Si1-xGex substrate using laser annealing
بواسطة: Ong, K.K., وآخرون
منشور في: (2014) -
Doping dependence of intersubband transitions in Si1-xGex Si multiple quantum wells
بواسطة: Karunasiri, G., وآخرون
منشور في: (2014)